溅射镀膜是最近发展起来的一种新的表面处理技术。表面处理技术能使材料的物理,机械和化学性能得到提高，而溅射镀膜比以往的真空镀膜具有“高速、低温”两个显著的特点.下面就让北京J9.COM的小编为大家分享一下关于溅射靶材的工艺都有哪些?
靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的绑定服务.
参考尺寸:直径 ≦355.6mm (14英寸) ,长度≦1000mm ,宽度≦200mm ,厚度≦20mm
溅射靶材的工艺有哪几种?
溅射靶材的工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜淀积两个方面。
淀积薄膜时，溅射源置于靶极，受氩离子轰击后产生溅射。假如靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜;若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜，一般，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。
溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受氩离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时，应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。
