现在社会上越来越多的用户都了解了靶材的种类以及靶材的用途，如果是细分的话，可能不会清楚的区分具体的靶材类型，现在就让北京J9.COM的小编来和大家一起分享一下关于磁控溅射靶材的类型介绍!
溅射靶材：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材 ，硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶瓷溅射靶材 ，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)。
磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简略，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电资料外，也可溅射非导电的资料，溅射靶材一起还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物资料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
