现代修建大多已开始采用大面积玻璃采光，这方面带给咱们更亮堂的房间以及更宽阔的视野，另方面因为透过玻璃传递的热能远高于周围墙体，导致整个修建物的使用能耗显着增大。
相对发达家高达90%以上低辐射玻璃的使用率，中的Low-E玻璃普及率仅12%左右，其在中还有非常大的发展空间。但是相关于一般玻璃和在线Low-E玻璃，离线LowE玻璃的生产本钱比较高，这在定程度上约束了其应用，内玻璃加工企业有义务不断下降镀膜产品的生产本钱，使低辐射玻璃加速普及进程，节省能源，改善环境，完成社会的可持续发展。
1、靶材形状的影响
关于大面积镀膜常用的靶材按形状分包含平面靶和旋转靶，常用的平面靶包含铜靶、银靶、镍铬靶和石墨靶，常用的旋转靶包含锌铝靶、锌锡靶、硅铝靶、锡靶、氧化钛靶和氧化锌铝靶等。靶材形状影响磁控溅射镀膜的稳定性和膜层性，以及靶材的利用率，因此可以经过改变靶材的形状设计提高镀膜质量和生产率，节省本钱。
2、靶材相对密度和孔隙的影响
靶材的相对密度是靶材实践密度与理论密度的比值，单成分靶材的理论密度为结晶密度，合金或混合物靶材的理论密度经过各组元的理论密度和其在合金或混合物中所占比例核算得出的。热喷涂靶材安排疏松多孔，含氧量高(即使是真空喷涂，也难以避免合金靶材中氧化物和氮化物的发生),表面出现灰色，缺少金属光泽，吸附的杂质、湿气是首要的污染源，妨碍高真空的敏捷获得，容易导致溅射过程中放电，甚至烧坏靶材。
3、靶材晶粒尺度和结晶方向的影响
同成分的靶材，晶粒尺度较小的靶材比晶粒尺度大的堆积速率快，这首要是因为晶界在溅射过程中更容易遭到进犯，晶界越多，成膜就越快。晶粒尺度的大小除影响溅射速率外，也会影响成膜质量。例如在EowE产品生产过程中，NCr作为红外反射层Ag的维护层，其质量对镀膜产品有非常大的影响。因为NiCr膜层的消光系数比较大，所以般镀的很薄(约3nm左右)。假如晶粒尺度过大，溅射时间短，会造成膜层细密性差，下降其对Ag层的维护作用，导致镀膜产品氧化脱膜。
4、总结
靶材的形状设计首要影响靶材利用率，合理的尺度设计可以提高靶材的利用率，节省本钱。晶粒庹寸越小，镀膜的速率越快，均匀性越好。纯度和细密度越高，孔隙率越少，成膜质量越好，放电掉渣的几率就越小。
